超純水設備成為芯片清潔的有效解決方案

時間：2024-08-23

　　在當代電子科技的精密領域中，芯片作為核心部件，其性能直接影響著電子產品的功能與壽命。芯片的微小構造要求其表面必須保持極致的清潔度，任何微粒或化學雜質的附著都可能引起功能障礙。因此，當面臨芯片清潔的挑戰時，超純水以其獨特的純凈特性，成為了維護芯片潔凈度的理想方案。

　　超純水——芯片清潔的理想之選

　　普通水中的礦物質、微量元素等雜質對于芯片而言是潛在的威脅，它們可能導致電路短路或腐蝕金屬層。相比之下，超純水幾乎只包含氫和氧原子，其純度能夠達到18 MΩ*cm(25℃)的電阻率，確保在清洗過程中不引入任何外界干擾，為芯片提供一個無污染的作業環境。此外，超純水無菌無微生物的特性，進一步保障了芯片的長期穩定運行。

　　高效可靠的超純水生產設備

　　為了穩定供應超純水，超純水設備采用的靶向離子交換系統能精確去除硼等難以處理的離子，而反滲透膜系統的應用不僅提升了設備對抗污染的能力，還通過電荷運行機制加速離子遷移，實現高效脫鹽。尤為重要的是，EDI模塊(電去離子技術)在脫鹽同時避免了傳統酸堿處理步驟，極大減輕了環保負擔。

超純水設備